SYOS 2: Plasma und Optische Technologien II
Dienstag, 26. Februar 2013, 14:00–16:00, HS 2
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14:00 |
SYOS 2.1 |
Hauptvortrag:
Diagnostik und Steuerung von PIAD-Prozessen — •Jens Harhausen, Rüdiger Foest, Andreas Ohl, Dieter Gäbler, Norbert Kaiser, Olaf Stenzel, Steffen Wilbrandt, Ralf-Peter Brinkmann, Benjamin Schröder, Robert Storch und Tim Styrnoll
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14:30 |
SYOS 2.2 |
Hauptvortrag:
Charakterisierung beschichtender Plasmen — •Peter Awakowicz
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15:00 |
SYOS 2.3 |
Hauptvortrag:
Plasmadiagnostik und Prozessüberwachung mit der Multipolresonanzsonde — •Ralf Peter Brinkmann, Michael Friedrichs, Martin Lapke, Jens Oberrath, Christian Schulz, Robert Storch, Tim Styrnoll, Peter Awakowitz, Thomas Mussenbrock, Thomas Musch und Ilona Rolfes
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15:30 |
SYOS 2.4 |
Hauptvortrag:
Analyse des Ionenstrahlzerstäubens mittels Plasmadiagnostik — •Carsten Schmitz
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