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Jena 2013 – scientific programme

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SYOS: Symposium Plasma und Optische Schichten

SYOS 2: Plasma und Optische Technologien II

Tuesday, February 26, 2013, 14:00–16:00, HS 2

14:00 SYOS 2.1 Invited Talk: Diagnostik und Steuerung von PIAD-Prozessen — •Jens Harhausen, Rüdiger Foest, Andreas Ohl, Dieter Gäbler, Norbert Kaiser, Olaf Stenzel, Steffen Wilbrandt, Ralf-Peter Brinkmann, Benjamin Schröder, Robert Storch und Tim Styrnoll
14:30 SYOS 2.2 Invited Talk: Charakterisierung beschichtender Plasmen — •Peter Awakowicz
15:00 SYOS 2.3 Invited Talk: Plasmadiagnostik und Prozessüberwachung mit der Multipolresonanzsonde — •Ralf Peter Brinkmann, Michael Friedrichs, Martin Lapke, Jens Oberrath, Christian Schulz, Robert Storch, Tim Styrnoll, Peter Awakowitz, Thomas Mussenbrock, Thomas Musch und Ilona Rolfes
15:30 SYOS 2.4 Invited Talk: Analyse des Ionenstrahlzerstäubens mittels Plasmadiagnostik — •Carsten Schmitz
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