Jena 2013 – wissenschaftliches Programm

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SYOS: Symposium Plasma und Optische Schichten

SYOS 2: Plasma und Optische Technologien II

SYOS 2.1: Hauptvortrag

Dienstag, 26. Februar 2013, 14:00–14:30, HS 2

Diagnostik und Steuerung von PIAD-Prozessen — •Jens Harhausen¹, Rüdiger Foest¹, Andreas Ohl¹, Dieter Gäbler², Norbert Kaiser², Olaf Stenzel², Steffen Wilbrandt², Ralf-Peter Brinkmann³, Benjamin Schröder³, Robert Storch³ und Tim Styrnoll³ — ¹INP Greifswald e.V. — ²Fraunhofer IOF — ³Ruhr-Universität Bochum

Die Plasma-ionengestützte Deposition optischer Schichten ist ein in der Industrie weit verbreitetes Verfahren. Eine häufig eingesetzte Plasmaquelle ist die Advanced Plasma Source (APS) der Leybold Optics GmbH. Im Rahmen des BMBF-Verbundprojekts PluTO konnten wesentliche Fortschritte zum Verständnis der Eigenschaften und Funktionsweise der Plasmaquelle und des Plasmas im Rezipienten erzielt werden. Etablierte Regelverfahren für PIAD-Prozesse basieren nicht auf der Erfassung von Plasmakenngrössen, sondern auf indirekten Grössen wie Strömen oder Spannungen. Der aktuelle Grad an Reproduzierbarkeit kann die wirtschaftliche Produktion von Schichten anspruchsvoller Spezifikationen erschweren. Dieser Beitrag diskutiert wesentliche Ursachen von Driften der Plasmastützung und zeigt neue Ansätze für die in-situ Erfassung von Plasmakenngrössen. Der Schwerpunkt liegt hierbei auf der optischen Emissionsspektroskopie und der Plasmaresonanzspektroskopie. Hieraus werden neue Konzepte für Regelverfahren von PIAD-Prozessen abgeleitet.