Münster 1999 – wissenschaftliches Programm

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VA: Vakuumphysik und Vakuumtechnik

VA 2: Vakuumverfahrenstechnik I

Montag, 22. März 1999, 14:00–15:20, ZH

	14:00	VA 2.1	Hauptvortrag: Was kommt nach der optischen Lithographie? — •Wilhelm Br"unger
	14:40	VA 2.2	Hauptvortrag: Nanolithographie — •Heinrich Kurz